[发明专利]用于真空低温条件下的超大面源黑体校准系统在审

专利信息
申请号: 201410174852.2 申请日: 2014-04-28
公开(公告)号: CN103940519A 公开(公告)日: 2014-07-23
发明(设计)人: 张玉国;魏建强;孙红胜;杨旺林;刘亚平 申请(专利权)人: 北京振兴计量测试研究所
主分类号: G01J5/52 分类号: G01J5/52
代理公司: 北京君尚知识产权代理事务所(普通合伙) 11200 代理人: 余长江
地址: 100074 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种用于真空低温条件下的超大面源黑体校准系统。本系统包括转接接口、折转光学系统、成像镜组、调焦镜组、红外面阵探测器、信号处理单元;待测面源黑体与所述折转光学系统位于同一真空舱内,所述成像镜组通过所述转接接口与所述真空舱连接;所述折转光学系统位于待测面源黑体之前,用于将待测面源黑体的红外光线反射入所述成像镜组输入端口,所述成像镜组输出光线经所述调焦镜组输入所述红外面阵探测器,其输出端经AD信号卡与所述信号处理单元连接。本发明能够实现真空低温条件下超大面源黑体校准的系统,填补了此项技术空白。
搜索关键词: 用于 真空 低温 条件下 大面 黑体 校准 系统
【主权项】:
一种用于真空低温条件下的超大面源黑体校准系统,其特征在于包括转接接口、折转光学系统、成像镜组、调焦镜组、红外面阵探测器、信号处理单元;待测面源黑体与所述折转光学系统位于同一真空舱内,所述成像镜组通过所述转接接口与所述真空舱连接;所述折转光学系统位于待测面源黑体之前,用于将待测面源黑体的红外光线反射入所述成像镜组输入端口,所述成像镜组输出光线经所述调焦镜组输入所述红外面阵探测器,其输出端经AD信号卡与所述信号处理单元连接。
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