[发明专利]图案形成方法、压模的制造方法以及磁记录介质的制造方法在审
| 申请号： | 201410165545.8 | 申请日： | 2014-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN104732987A | 公开（公告）日： | 2015-06-24 |
| 发明（设计）人： | 泷泽和孝;岩崎刚之;竹尾昭彦 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 陈海红;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于得到图案尺寸精度良好的图案形成方法。根据实施方式，可得到一种图案形成方法，其中，包含：在基板上形成被加工层的工序；将含有金属微粒与溶剂的金属微粒涂敷液涂敷到被加工层上以形成金属微粒层的工序；通过第1蚀刻降低金属微粒周围的保护基量的工序；暴露于包含C与F的气体中并使气体吸附于金属微粒周围而形成保护层的工序；以及通过第2蚀刻将凸图案向该被加工层复制的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 方法 制造 以及 记录 介质 | ||
【主权项】：
一种图案形成方法，包括：在基板上形成被加工层的工序；将含有金属微粒与溶剂的金属微粒涂敷液涂敷到所述被加工层上而形成金属微粒层的工序；通过第1蚀刻来降低该金属微粒周围的保护基量的工序；暴露于含有碳与氟的气体，使所述气体吸附在金属微粒周围而形成保护层的工序；以及通过第2蚀刻来将凸图案向该被加工层复制的工序。
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