[发明专利]摩擦处理方法无效
| 申请号： | 201410143730.7 | 申请日： | 2014-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN104102049A | 公开（公告）日： | 2014-10-15 |
| 发明（设计）人： | 村上大 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 臧建明 |
| 地址： | 日本东京港区*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的课题在于提供一种摩擦处理方法，能大幅地抑制亮点缺陷。本发明的摩擦处理方法包括：离线除尘步骤，在离线状态下，使刷辊(102)一面左右振动一面旋转接触于外周装设着摩擦布(90)的摩擦辊(72)，从而去除附着在摩擦布(90)上的尘埃；及配向膜形成步骤，一面使具有配向膜形成材料层的基材连续移行，一面使用已在离线除尘步骤中除去尘埃的摩擦辊(72)来形成配向膜。 | ||
| 搜索关键词： | 摩擦 处理 方法 | ||
【主权项】：
一种摩擦处理方法，其特征在于包括：离线除尘步骤，在离线状态下，使刷辊一面左右振动一面旋转接触于外周装设着摩擦布的摩擦辊，从而除去附着在所述摩擦布上的尘埃；及配向膜形成步骤，一面使具有配向膜形成材料层的基材连续移行，一面使用已在所述离线除尘步骤中除去尘埃的所述摩擦辊来形成配向膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社，未经富士胶片株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410143730.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种手势控制方法、装置和系统
- 下一篇：气密地密封的检孔仪探测器顶端
