[发明专利]一种纯Fe薄膜电催化剂的制备方法有效
申请号: | 201410140463.8 | 申请日: | 2014-04-10 |
公开(公告)号: | CN104368341A | 公开(公告)日: | 2015-02-25 |
发明(设计)人: | 陈敬艳 | 申请(专利权)人: | 长春师范大学 |
主分类号: | B01J23/745 | 分类号: | B01J23/745;H01M4/90 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 130032 吉林*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 本发明涉及一种纯Fe薄膜电催化剂的制备方法,通过射频磁控溅射法,在钛基底上沉积纯Fe薄膜,溅射气体的流量为20sccm(标准状态毫升每分);然后利用高真空热处理炉在氩气下对沉积的薄膜进行700℃热处理以实现纯Fe薄膜催化剂的制备。该方法成本较低,操作简单,易于在工厂中实现。制备的纯Fe催化剂开启电位为-0.12V,极限电流密度为4.75mAcm-2,在18000s的计时电流测试中比电流仍能保持63%;不会发生甲醇中毒。虽然其催化活性略逊于商业的Pt/C催化剂,但其稳定性可以和Pt/C催化剂媲美,其选择性胜于Pt/C催化剂,是一种性价比优良的非贵金属催化剂。 | ||
搜索关键词: | 一种 fe 薄膜 催化剂 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种制备纯Fe薄膜电催化剂材料的方法,其特征在于:通过射频磁控溅射法在多晶钛基底材料上沉积纯Fe薄膜,并对纯Fe薄膜进行热处理获得纯Fe薄膜电催化剂,具体步骤包括:步骤A:将靶材和基底材料置于真空装置中,系统抽真空,待达到一定真空度,通入溅射气体;步骤B:利用射频磁控溅射沉积法,设定射频功率和溅射时间,最终在基底上沉积纯Fe薄膜;步骤C:将沉积纯Fe薄膜的基底放入高真空热处理炉中,通入保护气体,升温至预定反应温度时,保温一段时间,对纯Fe薄膜进行热处理;步骤D:热处理结束后,继续通保护气体,冷却至室温;可得纯Fe薄膜催化剂。
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