[发明专利]透射电镜样品的制备方法有效
| 申请号： | 201410126975.9 | 申请日： | 2014-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN103868777A | 公开（公告）日： | 2014-06-18 |
| 发明（设计）人： | 陈强;孙蓓瑶 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G01N1/28 | 分类号： | G01N1/28 |
| 代理公司： | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人： | 吴世华;林彦之 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种透射电镜样品的制备方法，包括提供待制样器件，选定需分析的目标区域；制备至少一个截面使其靠近目标区域；在目标区域的对应位置沉积保护层；对沉积有保护层的两个表面进行离子束切割；沿两个表面中任一表面相垂直的方向进行离子束切割时，若发现目标区域沿切割方向的上方具有孔洞，则停止该方向的切割，沿另一个表面相垂直的方向进行离子束切割，露出目标区域；完成对待制样器件尺寸要求的切割，制得样品。本发明可以有效避免因孔洞对目标区域形貌产生curtain效应的影响，防止缺陷的产生，提高样品分析的可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 透射 样品 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种透射电镜样品的制备方法，其特征在于，其包括以下步骤：步骤S01，提供待制样器件，选定需分析的目标区域；步骤S02，制备该待制样器件的至少一个截面使其靠近目标区域；步骤S03，对靠近该目标区域的截面及与该截面相邻的器件表面，在目标区域的对应位置沉积保护层；步骤S04，对沉积有保护层的两个表面进行离子束切割；步骤S05，沿两个表面中任一表面相垂直的方向进行离子束切割时，若发现目标区域沿切割方向的上方具有孔洞，则停止该方向的切割，沿另一个表面相垂直的方向进行离子束切割，露出目标区域；步骤S06，完成对待制样器件尺寸要求的切割，制得样品。
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