[发明专利]一种连续测量材料方向光谱发射率的装置和方法

摘要

本发明公开了一种连续测量材料方向光谱发射率的装置和方法。本发明的技术方案要点为：一种连续测量材料方向光谱发射率的装置，主要由椭圆轨道、步进电机A、步进电机B、反射镜A、反射镜B、抛物面反射镜、加热及控温装置、标准黑体、电动位移平台和探测装置构成，该装置利用椭圆的几何性质，将待测样品放置于椭圆左焦点处，样品的表面中心发出的辐射光经由置于椭圆轨道上且和椭圆轨道始终相切的反射镜A反射后到达椭圆右焦点处，通过放置在右焦点处的反射镜B反射，再经抛物面反射镜反射后到达探测装置中。本发明既不用旋转样品，也不用旋转探测器，通过两个步进电机带动的反射镜的同步调节来实现材料方向光谱发射率的测量。

主权项

一种连续测量材料方向光谱发射率的装置，其特征在于主要由椭圆轨道、步进电机A、步进电机B、反射镜A、反射镜B、抛物面反射镜、加热及控温装置、标准黑体、电动位移平台、探测装置和计算机构成，所述的椭圆轨道固定于支架上，步进电机A固定于椭圆轨道外侧并沿椭圆轨道方向运行，在步进电机A的转轴上固定有反射镜A，该反射镜A的镜面与椭圆轨道的内壁相切，并且在步进电机A沿椭圆轨道运行过程中通过转轴调整反射镜A的镜面始终与椭圆轨道的内壁相切，所述的步进电机B固定于椭圆轨道右焦点的外侧，在步进电机B的转轴上固定有反射镜B，该反射镜B镜面的中心位置与椭圆轨道的右焦点重合，通过步进电机B的转轴调整反射镜B的角度使经过反射镜B的辐射光方向竖直向下，反射镜B的下方沿光传输方向设有抛物面反射镜，在抛物面反射镜的右侧沿光传输方向设有探测装置，所述的加热及控温装置分别设置于电动位移平台上，并且加热及控温装置中样品的表面中心及标准黑体的孔径中心分别与椭圆轨道的左右焦点处于同一水平面上，通过计算机控制电动位移平台的移动、步进电机A和步进电机B转轴的转动以及探测装置的数据采集。