[发明专利]光刻胶回收装置，涂布系统及涂布方法有效
| 申请号： | 201410108616.0 | 申请日： | 2014-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN103910493A | 公开（公告）日： | 2014-07-09 |
| 发明（设计）人： | 李晓光;袁剑峰;吴洪江;姜晶晶;肖宇;黎敏 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/00 | 分类号： | C03C17/00 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及液晶制程领域，公开了一种光刻胶回收装置，涂布系统和涂布方法。光刻胶回收装置，包括：第一容纳单元，用于容纳从光刻胶出胶口流出的光刻胶；空心体，其位于第一容纳单元的下方且位于上方的部分具有可单向出气的排气口；第一连接管，其位于上方的一端与第一容纳单元位于下方的部分相连通，其位于下方的一端与空心体位于上方的部分相连通；第一容纳单元内的光刻胶经第一连接管滴落至空心体内；其中，空心体用于通过可单向出气的排气口将光刻胶中的气体排出。涂布系统包括上述光刻胶回收装置。涂布方法是涂布系统的涂布方法。本发明使得在基板上形成的膜厚度均匀，同时，不仅节约了光刻胶，而且保证了回收的光刻胶的洁净度。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 回收 装置 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻胶回收装置，其特征在于，包括：第一容纳单元，用于容纳从光刻胶出胶口流出的光刻胶；空心体，其位于第一容纳单元的下方且位于上方的部分具有可单向出气的排气口；第一连接管，其位于上方的一端与所述第一容纳单元位于下方的部分相连通，其位于下方的一端与所述空心体位于上方的部分相连通；所述第一容纳单元内的光刻胶经所述第一连接管滴落至所述空心体内；其中，所述空心体用于在所述第一容纳单元内的光刻胶经所述第一连接管滴落至所述空心体内的过程中，通过可单向出气的排气口将光刻胶中的气体排出。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410108616.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
