[发明专利]光刻胶回收装置，涂布系统及涂布方法

权利要求书

1.一种光刻胶回收装置，其特征在于，包括：

第一容纳单元，用于容纳从光刻胶出胶口流出的光刻胶；

空心体，其位于第一容纳单元的下方且位于上方的部分具有可单向出气的排气口；

第一连接管，其位于上方的一端与所述第一容纳单元位于下方的部分相连通，其位于下方的一端与所述空心体位于上方的部分相连通；所述第一容纳单元内的光刻胶经所述第一连接管滴落至所述空心体内；

其中，所述空心体用于在所述第一容纳单元内的光刻胶经所述第一连接管滴落至所述空心体内的过程中，通过可单向出气的排气口将光刻胶中的气体排出。

2.根据权利要求1所述的光刻胶回收装置，其特征在于，所述空心体是椭圆形空心体；所述椭圆形空心体的长轴沿竖直方向。

3.根据权利要求1或2所述的光刻胶回收装置，其特征在于，还包括第二容纳单元，其位于所述空心体的下方；

第二连接管，其位于上方的一端与所述空心体位于下方的部分相连通，其位于下方的一端与所述第二容纳单元相连通；经所述第一连接管滴落的光刻胶汇集在所述空心体内，所述空心体内的光刻胶在受到足够压力的情况下，经所述第二连接管向下流动至所述第二容纳单元内。

4.根据权利要求3所述的光刻胶回收装置，其特征在于，还包括充气吸气单元，其与所述第一容纳单元相连通；

在光刻胶从第一容纳单元向下流动时，所述充气吸气单元向第一容纳单元充气，所充的气体推动光刻胶向下流动；

在光刻胶全部流动到第一连接管时，所述充气吸气单元从所述第一容纳单元吸气，回收气体。

5.根据权利要求4所述的光刻胶回收装置，其特征在于，所述第一容纳单元还包括密封门，所述密封门可将第一开口密封。

6.根据权利要求5所述的光刻胶回收装置，其特征在于，所述第一容纳单元设置有第一开口，所述第一开口可与光刻胶出胶口密封连接；

所述光刻胶回收装置还包括抽气单元，其与所述第一容纳单元相连通；在光刻胶出胶口和所述第一开口密封连接后，所述抽气单元可抽取所述第一容纳单元中的气体。

7.一种涂布系统，其特征在于，包括：

光刻胶出胶口；

用于放置待涂布基板的长方形机台，其包括相对设置的第一工作侧和第二工作侧，所述光刻胶出胶口可在所述第一工作侧和第二工作侧之间往复运动以对待涂布基板进行涂布；

权利要求1-6任一所述的光刻胶回收装置，其设置在所述第一工作侧的一端且与所述第一工作侧相邻。

8.根据权利要求7所述的涂布系统，其特征在于，所述光刻胶回收装置是两个，另一个设置在所述第二工作侧的一端且与所述第二工作侧相邻；设置有光刻胶回收装置的第一工作侧的一端与设置有光刻胶回收装置的第二工作侧的一端位于所述机台的对角线上。

9.根据权利要求8所述的涂布系统，其特征在于，还包括：

流量传感器，其安装在所述光刻胶出胶口；

控制单元，其与所述流量传感器通信连接，根据流量传感器的吐胶量，控制光刻胶出胶口。

10.一种涂布方法，其特征在于，包括如下步骤：

将基板置于长方形机台上；

将光刻胶出胶口和光刻胶回收装置的第一容纳单元的第一开口密封连接；

开始出胶，光刻胶经光刻胶出胶口和第一开口流入光刻胶回收装置；

在光刻胶出胶口的出胶达到稳定的数值后，光刻胶出胶口离开光刻胶回收装置的第一容纳单元的第一开口，开始对待涂布基板进行涂胶；

在涂胶结束后，将光刻胶出胶口和光刻胶回收装置的第一容纳单元的第一开口密封连接，光刻胶出胶口停止出胶，光刻胶出胶口吐胶量逐渐减小，直至达到零。

11.根据权利要求10所述的涂布方法，其特征在于，在光刻胶出胶口和光刻胶回收装置的第一容纳单元的第一开口密封连接后，还包括以下步骤：

抽气单元抽取第一容纳单元中的气体直至第一容纳单元中的气体浓度达到要求。