[发明专利]一种阴离子交换层析柱的清洗方法

摘要

本发明涉及一种阴离子交换层析柱的清洗方法，所述方法包括如下步骤：步骤1，将不洁的阴离子交换层析柱填料，用水清洗，再用含有NaOH和氯化钠的水溶液清洗；步骤2，用水洗掉NaOH和氯化钠，再用异丙醇清洗，再用乙酸清洗；步骤3，用水清洗，再用含有NaOH和氯化钠的水溶液清洗；步骤4，用平衡缓冲液(pH5.0‑8)清洗；根据需要，本发明还包括步骤,5和步骤6的步骤，如下：步骤5，取步骤4得到的清洗液，滴磷酸，观察有无沉淀产生，如无沉淀，用总有机碳分析仪测定该清洗液，测定结果低于500ppm，则表示清洗合格；步骤6，若有沉淀产生，须用水将步骤4得到清洗液稀释直至滴加磷酸后无沉淀出现后，将稀释后的清洗液用总有机碳分析仪测定该清洗液，测定结果乘以稀释倍数获得的数据低于500ppm，则表示清洗合格。

主权项

1.一种阴离子交换层析柱的清洗方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1，将不洁的阴离子交换层析柱填料，用水清洗，再用含有氢氧化钠和氯化钠的水溶液清洗；步骤2，用水洗掉氢氧化钠和氯化钠，再用异丙醇清洗，再用乙酸清洗；步骤3，用水清洗，再用含有氢氧化钠和氯化钠的水溶液清洗；步骤4，用含有氯化钠的平衡缓冲液pH5.0‑8清洗；步骤5，取步骤4得到的清洗液，滴磷酸，观察有无沉淀产生，如无沉淀，用总有机碳分析仪测定该清洗液，测定结果低于500ppm，则表示清洗合格；步骤6，若有沉淀产生，须用水将步骤4得到的清洗液稀释直至滴加磷酸后无沉淀出现后，将稀释后的清洗液用总有机碳分析仪测定该清洗液，测定结果乘以稀释倍数获得的数据低于500ppm，则表示清洗合格。