[发明专利]一种大口径光学元件的离子束加工装置及方法

摘要

本发明涉及一种大口径光学元件的离子束加工装置及方法，所述装置包括一主真空舱、副真空舱、被加工件夹持机构、试验样品夹持机构、试验样品传输机构、离子源、数控三坐标位移台和气动真空门，主真空舱为大口径光学元件及样品材料提供真空加工环境；试验样品夹持机构用于夹持工件样品；试验样品传输机构用于在主真空舱与副真空舱之间来回移动样品；离子源用于光学零件表面面形材料的去除；数控三坐标位移台用于驱动离子源运动；气动真空门用于连通与隔离主真空舱和副真空舱。所述加工方法能对大型光学元件进行分块加工，即便加工过程中离子源性能劣化，该加工方法依然能获得整个表面形貌一致优良的光学元件。

主权项

一种大口径光学元件的离子束加工装置，其特征在于包括主真空舱（101）、副真空舱（110）、气动真空门（106）、数控三坐标位移台（105）、离子源（103）、被加工件夹持机构（116）、试验样品夹持机构（109）、试验样品传送机构（113）；主真空舱（101）存在一个主真空舱门（102），用做被加工件（105）放入和取出主真空舱（101）的通道；主真空舱（101）存在一个进气孔（104）用于往主真空舱（101）内注入气体，存在一个抽气孔（114）用于从主真空舱（101）内抽取气体；副真空舱（110）在主真空舱（101）内的位置必须满足在被加工件（105）夹持好后并不会遮拦副真空舱（110）；被加工件（105）和试验样品（112）可以同时被夹持于主真空舱（101）内，并均可以被离子源（103）轰击；气动真空门（106）竖直安装于主真空舱（101）与副真空舱（110）之间，其门插板（120）能上下移动，以控制真空门（106）关闭与开启；气动真空门（106）关闭时，主真空舱（101）和副真空舱（110）隔开，可分别形成两个独立的真空环境；气动真空门（106）打开时，主真空舱（101）和副真空舱（110）连通，形成一个连通的空间。