[发明专利]天线模块及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201410095976.1 申请日: 2014-03-14
公开(公告)号: CN104051851A 公开(公告)日: 2014-09-17
发明(设计)人: 井上真弥;程野将行;本上满 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: H01Q3/00 分类号: H01Q3/00;H01Q13/10
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供天线模块及其制造方法。在基底层的主面之上形成有第1导电层和第2导电层。在第1导电层和第2导电层之间形成有渐变槽。在第1导电层上形成有第1狭缝,在第2导电层上形成有第2狭缝。由此,第1导电层分离成第1元件连接部和第1天线部,第2导电层分离成第2元件连接部和第2天线部。第1元件连接部和第2元件连接部均与半导体元件相连接。
搜索关键词: 天线 模块 及其 制造 方法
【主权项】:
一种天线模块,其中,该天线模块具备:基底层,其具有绝缘性,并具有第1面和第2面;电极,其以能够接收或者能够发送太赫频带内的电磁波的方式形成于上述基底层的上述第1面和上述第2面中的至少一个面之上;以及半导体元件,其以与上述电极电连接的方式安装在上述基底层的上述第1面和上述第2面中的至少一个面之上,能够在太赫频带下进行动作,上述电极包括第1导电层和第2导电层,该第1导电层和第2导电层构成具有开口的渐变槽天线,上述开口具有从上述第1导电层和上述第2导电层的一端向另一端连续地减小或者阶梯地减小的宽度,在上述第1导电层上以如下方式形成第1狭缝:将上述第1导电层分离成第1元件连接部和第1天线部,该第1元件连接部位于上述第1导电层的上述另一端且与上述半导体元件电连接,该第1天线部不与上述半导体元件电连接,在上述第2导电层上以如下方式形成第2狭缝:将上述第2导电层分离成第2元件连接部和第2天线部,该第2元件连接部位于上述第2导电层的上述另一端且与上述半导体元件电连接,该第2天线部不与上述半导体元件电连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日东电工株式会社,未经日东电工株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410095976.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top