[发明专利]液体喷射头及所用基板及其制造方法、记录设备有效
申请号: | 201410092875.9 | 申请日: | 2014-03-13 |
公开(公告)号: | CN104044348A | 公开(公告)日: | 2014-09-17 |
发明(设计)人: | 樱井诚;初井琢也;竹内创太;安田建;永持创一朗 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | B41J2/16 | 分类号: | B41J2/16 |
代理公司: | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人: | 魏启学 |
地址: | 日本东京都大*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种液体喷射头及所用基板及其制造方法、记录设备。所述液体喷射头包括其中形成有用于喷射液体的喷射口的构件以及该构件接合至的基板。所述基板具有包含硅化合物的蓄热层和设置在对应于所述喷射口的位置的用于通过通电产生热以从所述喷射口喷射液体的能量生成元件。所述能量生成元件具有层压体,所述层压体具有由钽或钨形成的金属层、层压在所述金属层上并且由硅形成的Si层以及层压在该Si层上并由氮形成的N层,所述金属层与所述蓄热层接触。 | ||
搜索关键词: | 液体 喷射 所用 及其 制造 方法 记录 设备 | ||
【主权项】:
一种液体喷射头,包括:形成有用于喷射液体的喷射口的构件;以及接合至所述构件的基板,其中,所述基板具有包含硅化合物的蓄热层、以及设置在与所述喷射口相对应的位置处的用于通过通电产生热以从所述喷射口喷射液体的能量生成元件,以及所述能量生成元件具有层压体,所述层压体具有由钽或钨形成的金属层、层压在所述金属层上并且由硅形成的Si层、以及层压在所述Si层上并由氮形成的N层,所述金属层与所述蓄热层接触。
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