[发明专利]具有广谱终点检测窗口的化学机械抛光垫以及使用该抛光垫进行抛光的方法有效
| 申请号： | 201410080909.2 | 申请日： | 2014-03-06 |
| 公开（公告）号： | CN104029116B | 公开（公告）日： | 2017-05-24 |
| 发明（设计）人： | A·雷珀;D·B·詹姆士;M·A·洛伊格斯 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司;陶氏环球技术有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/24 | 分类号： | B24B37/24 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人： | 江磊 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种化学机械抛光垫，其包括具有抛光表面的抛光层；以及广谱终点检测窗口块体，其具有沿着垂直于所述抛光表面的平面的轴方向上的厚度；其中所述广谱终点检测窗口块体包含环状烯烃加成聚合物；其中所述广谱终点检测窗口块体在其厚度上具有均匀的化学组成；其中所述广谱终点检测窗口块体的光谱损失<40%；以及，其中所述抛光表面适合用于对选自磁性基材、光学基材和半导体基材的基材进行抛光。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 广谱 终点 检测 窗口 化学 机械抛光 以及 使用 抛光 进行 方法 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光垫，其包括:具有抛光表面的抛光层；以及广谱终点检测窗口块体，其沿着垂直于所述抛光表面的平面的轴方向上的厚度为TW；其中所述广谱终点检测窗口块体是由环状烯烃加成聚合物组成的；其中所述广谱终点检测窗口块体在其厚度TW上具有均匀的化学组成；其中所述广谱终点检测窗口块体的光谱损失≤40％；以及其中所述抛光表面适于对选自磁性基材、光学基材和半导体基材的基材进行抛光。
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