[发明专利]垂直磁记录介质及磁记录再现装置在审

专利信息
申请号: 201410068180.7 申请日: 2014-02-27
公开(公告)号: CN104700849A 公开(公告)日: 2015-06-10
发明(设计)人: 岩崎刚之 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: G11B5/66 分类号: G11B5/66;G11B5/86
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 陈海红;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供能得到磁性粒子的良好结晶取向性和低粒径分散、且具有良好的记录再现特性、并能进行高密度记录的垂直磁记录介质及使用其的磁记录再现装置。该装置具备:取向控制层,其由具有fcc结构的镍合金所构成;非磁性缓冲层,其包括具有fcc结构的银;非磁性种子层,其由具有fcc结构的银粒子和设置于银粒子间的非晶质的锗晶界所构成;非磁性中间层,其且由钌或钌合金所构成;以及垂直磁记录层,取向控制层和非磁性缓冲层、非磁性缓冲层和非磁性种子层接触地形成。
搜索关键词: 垂直 记录 介质 再现 装置
【主权项】:
一种垂直磁记录介质,其特征在于,具备:非磁性基板;取向控制层,其形成于该非磁性基板上且由具有fcc结构的镍合金所构成;非磁性缓冲层,其接触地形成于该镍合金取向控制层上且包括具有fcc结构的银;非磁性种子层,其接触地形成于该非磁性缓冲层上且由具有fcc结构的银粒子和设置于银粒子间的非晶质的锗晶界所构成;非磁性中间层,其形成于该非磁性种子层上且由钌或钌合金所构成;以及垂直磁记录层,其形成于该非磁性中间层上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝;,未经株式会社东芝;许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410068180.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top