[发明专利]溶液制膜方法有效

专利信息
申请号: 201410067399.5 申请日: 2014-02-26
公开(公告)号: CN104072791B 公开(公告)日: 2019-04-05
发明(设计)人: 继枝爱;鹫谷公人;池山昭弘 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: C08J5/18 分类号: C08J5/18;C08L1/12;C08K9/06;C08K3/36
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 臧建明
地址: 日本东京港区*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种防止向薄膜的长边方向拉伸的条纹的产生的溶液制膜方法。本发明制作一种由第1浓液(41)和第2浓液(42)构成的3层结构的薄膜。第2浓液(42)中包含微粒(14)。微粒(14)通过疏水基即三甲基硅烷基被进行表面包覆处理。微粒(14)的表面包覆率至少为0.012。从流延模(65)共流延而从传送带(62)剥离第1浓液(41)和第2浓液(42),并通过拉幅机(35)和辊干燥装置(36)进行干燥以作为薄膜(10)。
搜索关键词: 溶液 方法
【主权项】:
1.一种溶液制膜方法,具备如下步骤:(A)在一部分溶剂中溶解一部分聚合物以作为原料浓液的工序;(B)在剩余所述聚合物和剩余所述溶剂中分散二氧化硅微粒以获得微粒分散液的工序;(C)向一部分所述原料浓液加入所述微粒分散液的工序,其中相对于一部分所述原料浓液中的所述聚合物,所述二氧化硅微粒的质量比例为1.000%以下;(D)对在所述步骤C中获得的液体进行过滤,由此作为聚合物溶液的工序;(E)使所述聚合物溶液从流延模连续向连续行驶的流延支承体上流出,由此向所述流延支承体上形成流延膜的工序,所述聚合物溶液包含的所述二氧化硅微粒的表面至少以0.012的表面包覆率被疏水基所包覆,其中所述疏水基的至少一部份为三甲基硅烷基,且所述疏水基的一部份为三甲基硅烷基的情形,其他的所述疏水基为二甲基硅烷醇基;及(F)从所述流延支承体剥离所述流延膜以进行干燥的工序,其中存在有被二甲基硅烷醇基包覆的二氧化硅微粒时,被二甲基硅烷醇基包覆的二氧化硅微粒的质量比例为小于0.05%。
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