[发明专利]溶液制膜方法

说明书

本发明提供一种防止向薄膜的长边方向拉伸的条纹的产生的溶液制膜方法。本发明制作一种由第1浓液(41)和第2浓液(42)构成的3层结构的薄膜。第2浓液(42)中包含微粒(14)。微粒(14)通过疏水基即三甲基硅烷基被进行表面包覆处理。微粒(14)的表面包覆率至少为0.012。从流延模(65)共流延而从传送带(62)剥离第1浓液(41)和第2浓液(42)，并通过拉幅机(35)和辊干燥装置(36)进行干燥以作为薄膜(10)。

技术领域

本发明涉及一种溶液制膜方法。

背景技术

聚合物薄膜广泛用作偏光板保护薄膜和相位差薄膜等各种光学用途的薄膜，近年来越来越要求薄膜化。作为这种光学用途的代表性聚合物薄膜有纤维素酰化物薄膜。被用作光学用途的纤维素酰化物薄膜主要通过溶液制膜来制造。众所周知，制造长形的纤维素酰化物薄膜的溶液制膜方法中，使溶剂中溶解了纤维素酰化物的纤维素酰化物溶液从流延膜向行驶的流延支承体连续流出。由此，作为薄膜从流延支承体剥离形成于流延支承体上的流延膜并进行干燥，由此获得纤维素酰化物薄膜。

纤维素酰化物溶液中通常包含所谓去光剂即微粒。去光剂是用来提高薄膜的耐划擦性和光滑性，并防止薄膜被卷成辊状时彼此黏在一起的物质。因此，当制造单层结构的薄膜时使形成其薄膜的纤维素酰化物溶液中、而当制造多层结构的薄膜时使形成成为薄膜面的外侧层的纤维素酰化物溶液中包含去光剂。作为用作去光剂的微粒通常为二氧化硅(二氧化硅)微粒。

当使用包含二氧化硅微粒的纤维素酰化物溶液时，有时出现二氧化硅凝聚，且进入到薄膜中的凝聚物散射光或反射光的现象。因此，为抑制这种二氧化硅的凝聚，例如在日本专利公开2006-070240号公报中提出：包含纤维素酰化物、添加剂、溶剂及表面被进行疏水化处理的二氧化硅，且二氧化硅的疏水化率以甲醇湿润性(MW)值计为20％以下的纤维素酰化物溶液。

另外，尽管包含二氧化硅也将雾度抑制得较低并提高组装于液晶显示装置时的对比度，为此日本专利公开2007-017626号公报中记载有下述光学薄膜。该光学薄膜具备由有机化合物构成的层、及含有二氧化硅且分子量为1000以下的有机化合物的含量为二氧化硅含量的30质量％以下的层，且二氧化硅的MW满足0≤MW≤80。并且，尽管包含二氧化硅而降低雾度和黑色亮度，为此日本专利公开2006-265382号公报中记载有如下内容，即作为包含于纤维素酰化物溶液中的二氧化硅使用MW的范围为80＜MW≤100的二氧化硅，并且使用在二氧化硅中不存在5μm以上的粗粒的纤维素酰化物溶液。

随着薄膜的薄膜化，为了使去光剂显现充分的功能，与以往相比需要增加二氧化硅的量。但是，若增加二氧化硅的量，则会在所获薄膜的薄膜面上确认到向薄膜的长边方向拉伸的条纹状的瑕疵。即使在使用日本专利公开2006-070240号公报、日本专利公开2007-017626号公报及日本专利公开2006-265382号公报中记载的二氧化硅或纤维素酰化物溶液的情况下增加二氧化硅的量，也导致该条纹状的瑕疵的产生。

发明内容

因此，本发明的目的在于提供一种通过使用二氧化硅来防止在薄膜面上产生向薄膜的长边方向拉伸的瑕疵的溶液制膜方法。

本发明的溶液制膜方法具备流延步骤(步骤A)及剥离干燥步骤(步骤B)。步骤A中，通过使溶剂中溶解了聚合物的聚合物溶液从流延膜向连续行驶的流延支承体上连续流出，以向流延支承体上形成流延膜。聚合物溶液包含二氧化硅微粒。微粒表面至少以0.012的表面包覆率被疏水基所包覆。步骤B中，从流延支承体上剥离流延膜以进行干燥。

当聚合物为纤维素酰化物时，上述溶液制膜方法尤为有效。

优选疏水基的至少一部分为三甲基硅烷基。