[发明专利]PZT系铁电薄膜形成用组合物及其制法和PZT系铁电薄膜形成法有效
| 申请号： | 201410054324.3 | 申请日： | 2014-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN104072132B | 公开（公告）日： | 2017-06-23 |
| 发明（设计）人： | 土井利浩;樱井英章;曽山信幸 | 申请（专利权）人： | 三菱综合材料株式会社 |
| 主分类号： | H01L41/187 | 分类号： | H01L41/187 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司11018 | 代理人： | 康泉,王珍仙 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种PZT系铁电薄膜形成用组合物及其制造方法以及PZT系铁电薄膜的形成方法。该PZT系铁电薄膜形成用组合物包括PZT前驱体、二醇、水及碳链为6以上12以下的直链一元醇、并包含聚乙烯吡咯烷酮或聚乙二醇。组合物100质量%中所占的上述PZT前驱体的浓度以氧化物浓度计为17～35质量%，组合物100质量%中的上述二醇的比例为16～56质量%，上述聚乙烯吡咯烷酮或聚乙二醇的比例相对于1摩尔的上述PZT前驱体为0.01～0.25摩尔，上述水的比例相对于1摩尔的上述PZT前驱体为0.5～3摩尔，组合物100质量%中的直链一元醇的比例为0.6～10质量%。 | ||
| 搜索关键词： | pzt 系铁电 薄膜 形成 组合 及其 制法 | ||
【主权项】：
一种PZT系铁电薄膜形成用组合物，其特征在于，所述组合物包含PZT前驱体、二醇、水及碳链为6以上12以下的直链一元醇，并包含聚乙烯吡咯烷酮或聚乙二醇，所述组合物100质量％中所占的所述PZT前驱体的浓度以氧化物浓度计为17～35质量％，所述组合物100质量％中的所述二醇的比例为16～56质量％，所述聚乙烯吡咯烷酮或聚乙二醇的比例相对于1摩尔的所述PZT前驱体为0.01～0.25摩尔，所述水的比例相对于1摩尔的所述PZT前驱体为0.5～3摩尔，所述组合物100质量％中的所述直链一元醇的比例为0.6～10质量％。
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