[发明专利]电感耦合等离子体处理装置有效
申请号: | 201410054308.4 | 申请日: | 2014-02-18 |
公开(公告)号: | CN103996595B | 公开(公告)日: | 2017-07-04 |
发明(设计)人: | 东条利洋;里吉务;佐佐木和男 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供能够使用分割型电介质窗对大型被处理基板进行均匀的等离子体处理的电感耦合等离子体处理装置。本发明为对矩形形状的基板实施电感耦合等离子体处理的电感耦合等离子体处理装置,包括收纳基板的处理室;用于在处理室内的配置基板的区域生成电感耦合等离子体的高频天线;和配置在生成电感耦等离子体的生成区域与高频天线之间,与基板对应地设置的呈矩形形状的电介质窗,高频天线设置成在与电介质窗对应的面内回转走线,电介质窗由金属制的支承梁分割为多个分割片,多个分割片包括包含长边的第一分割片和包含短边的第二分割片,第二分割片的径向的宽度(a)与上述第一分割片的径向的宽度(b)之比a/b为0.8以上1.2以下的范围。 | ||
搜索关键词: | 电感 耦合 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】:
一种电感耦合等离子体处理装置,其对矩形形状的基板实施电感耦合等离子体处理,所述电感耦合等离子体处理装置的特征在于,包括:收纳基板的处理室;用于在所述处理室内的配置基板的区域生成电感耦合等离子体的高频天线;和配置在生成所述电感耦合等离子体的等离子体生成区域与所述高频天线之间,与基板对应地设置的呈矩形形状的电介质窗,所述高频天线设置成在与所述电介质窗对应的面内回转走线,所述电介质窗由金属制的支承梁分割为多个分割片,所述多个分割片包括包含长边的第一分割片和包含短边的第二分割片,在以从所述电介质窗的四角在45°±6°的方向上延伸的线为第一线,以将所述第一线中分别夹着所述短边的2条第一线相交的2个交点连结的、与所述长边平行的线为第二线的情况下,所述电介质窗由沿所述第一线和所述第二线设置的所述金属制的支承梁分割为所述第一分割片和所述第二分割片,并且,所述第二分割片的径向的宽度a与所述第一分割片的径向的宽度b之比a/b为0.8以上1.2以下的范围。
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