[发明专利]分子筛EMM-12及其制备在审
| 申请号： | 201410053951.5 | 申请日： | 2009-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN103754892A | 公开（公告）日： | 2014-04-30 |
| 发明（设计）人： | T·E·赫尔登;M·J·文森特 | 申请（专利权）人： | 埃克森美孚化学专利公司 |
| 主分类号： | C01B39/46 | 分类号： | C01B39/46;C01B39/48 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 宁家成 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及分子筛EMM-12，呈其合成后原样的形式和煅烧过的形式的该分子筛具有这样的X-射线衍射图，其包括具有在14.17到12.57埃范围内的d-间距最大值的峰，具有在12.1到12.56埃范围内的d-间距最大值的峰，和在8.85到11.05埃之间的非分立散射，或者在具有在10.14到12.0埃范围内的d-间距最大值的峰和具有在8.66到10.13埃范围内的d-间距最大值的峰之间显示出谷，该谷在最低点的用背景校正的测定强度不小于在连接在10.14到12.0埃范围内的最大值和在8.66到10.13埃范围内的最大值的线上在相同X-射线衍射d-间距点的50%。本发明还涉及该分子筛的制备。 | ||
| 搜索关键词： | 分子筛 emm 12 及其 制备 | ||
【主权项】：
一种分子筛，呈其合成后原样的形式和煅烧过的形式的该分子筛具有这样的X‑射线衍射图，其包括具有在14.17到12.57埃范围内的d‑间距最大值的峰，具有在12.1到12.56埃范围内的d‑间距最大值的峰，和在8.85到11.05埃之间的非分立散射，或者在具有在10.14到12.0埃范围内的d‑间距最大值的峰和具有在8.66到10.13埃范围内的d‑间距最大值的峰之间显示出谷，该谷在最低点的用背景校正的测定强度不小于在连接在10.14到12.0埃范围内的最大值和在8.66到10.13埃范围内的最大值的线上在相同X‑射线衍射d‑间距点的50%。
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