[发明专利]一种阵列基板制造方法、阵列基板及显示设备在审
| 申请号： | 201410050914.9 | 申请日： | 2014-02-14 |
| 公开（公告）号： | CN103809318A | 公开（公告）日： | 2014-05-21 |
| 发明（设计）人： | 王孝林 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333;G02F1/1343 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种阵列基板制造方法、阵列基板及显示设备，涉及显示技术领域，包括：在基板的表面分别形成多条栅线和数据线，所述栅线和所述数据线横纵交叉构成多个呈矩阵形式排列的像素单元，并且形成第一电极图案和/或第二电极图案，其中，各栅线通过所述第一电极图案相互电连接，各数据线通过所述第二电极图案相互电连接；刻蚀所述第一电极图案和/或第二电极图案，以使得各栅线以及各数据线之间彼此电绝缘。本发明可以消除在阵列基板的制作过程中所产生的静电。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 制造 方法 显示 设备 | ||
【主权项】：
一种阵列基板制造方法，其特征在于，包括：在基板的表面分别形成多条栅线和数据线，所述栅线和所述数据线横纵交叉构成多个呈矩阵形式排列的像素单元，并且形成第一电极图案和/或第二电极图案，其中，各栅线通过所述第一电极图案相互电连接，各数据线通过所述第二电极图案相互电连接；刻蚀所述第一电极图案和/或第二电极图案，以使得各栅线以及各数据线之间彼此电绝缘。
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