[发明专利]一种结构型吸波材料及其制作方法有效
| 申请号： | 201410047908.8 | 申请日： | 2014-02-11 |
| 公开（公告）号： | CN103779667A | 公开（公告）日： | 2014-05-07 |
| 发明（设计）人： | 董凤良;徐丽华;宋志伟;褚卫国 | 申请（专利权）人： | 国家纳米科学中心 |
| 主分类号： | H01Q17/00 | 分类号： | H01Q17/00;H05K9/00 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 巩克栋;侯桂丽 |
| 地址： | 100190 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种在硅衬底材料上制作的吸波材料及其制备方法，所述方法包括：在衬底上沉积一层金属膜；然后采用ICPECVD沉积含硅层；旋涂电子束光刻胶，曝光光刻胶，形成周期结构的光刻胶图形；再沉积一层金属膜并进行剥离，最终形成金属膜/含硅介质层/具周期结构的金属膜的吸波材料。本发明提供的方法简单可行，可以通过调整周期结构的形状、周期和介质层的厚度调节电磁波的吸收频段，使制得的吸波材料具备较好的吸波性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 结构 型吸波 材料 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
一种在硅衬底材料上制作吸波材料的方法，包括如下步骤：1）在衬底上制备金属膜；2）采用感应耦合等离子体增强化学气相沉积技术生长含硅层；3）烘烤后旋涂电子束正性光刻胶，再烘烤；4）对光刻胶曝光并显影后，得到电子束正性光刻胶周期结构图形；5）采用电子束蒸发沉积金属膜；6）利用剥离工艺得到具有金属膜/含硅介质层/具周期结构的金属膜结构的吸波材料。
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