[发明专利]一种旋转靶及溅射装置有效
| 申请号： | 201410039981.0 | 申请日： | 2014-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN103789735A | 公开（公告）日： | 2014-05-14 |
| 发明（设计）人： | 王东方 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种旋转靶及溅射装置，旋转靶包括相对而置的上挡板和下挡板、位于上挡板与下挡板之间的支撑体以及多段相互紧密连接且包覆在支撑体外表面的旋转靶材，由于各旋转靶材的接缝在支撑体的旋转轴的投影为线段，而不是点，这样在旋转靶的旋转过程中，可以使各旋转靶材的接缝在基板上的投影来回移动，而不会使各旋转靶材的接缝始终对应基板的同一位置，从而使在基板上制备的薄膜的表面更均匀且性能一致，使旋转靶的镀膜质量得到优化。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 旋转 溅射 装置 | ||
【主权项】：
一种旋转靶，包括：相对而置的上挡板和下挡板，位于所述上挡板与所述下挡板之间的支撑体，以及多段相互紧密连接且包覆在所述支撑体外表面的旋转靶材，其特征在于：各所述旋转靶材的接缝在所述支撑体的旋转轴的投影为线段。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410039981.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种形成钻石膜的成核方法
- 下一篇：四方晶结构的铟靶材
- 同类专利
- 专利分类
