[发明专利]无光饰面聚酰亚胺膜及其相关方法有效
| 申请号： | 201410027400.1 | 申请日： | 2010-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN103788652A | 公开（公告）日： | 2014-05-14 |
| 发明（设计）人： | T·E·卡内;J·M·巴尔托灵;M·L·邓巴;S·J·赫曼 | 申请（专利权）人： | E.I.内穆尔杜邦公司 |
| 主分类号： | C08L79/08 | 分类号： | C08L79/08;C08K3/04;C08G73/10;C08J5/18;C09J7/02;C09J163/02;C09J163/04;C09J163/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 朱黎明 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及无光饰面聚酰亚胺膜及其相关方法，所述膜具有8至152微米的厚度、2至35的60度光泽度值、大于或等于2的光密度以及大于1400V/mil的介电强度。所述膜包含化学转化的（部分芳族的或全芳族的）聚酰亚胺，其量为所述基膜的71至96重量%。所述膜还包含颜料和聚酰亚胺颗粒消光剂。所述消光剂以所述膜的1.6至10重量%的量存在，并且具有1.3至10微米的中值粒度。所述颜料以所述基膜的2至9重量%的量存在。本发明还涉及表护层薄膜，其包括与粘合剂层结合的所述基膜。 | ||
| 搜索关键词： | 无光 聚酰亚胺 及其 相关 方法 | ||
【主权项】：
基膜，所述基膜包含：A.化学转化的聚酰亚胺，其量为所述基膜的71至96重量%，所述化学转化的聚酰亚胺衍生自：a.基于所述聚酰亚胺的总二酐含量至少50摩尔%的芳族二酐，和b.基于所述聚酰亚胺的总二胺含量至少50摩尔%的芳族二胺；B.低电导率炭黑，其以所述基膜的2至9重量%的量存在，该低电导率炭黑选自槽法炭黑、炉法炭黑或者挥发份含量大于或等于1％的炭黑；以及C.聚酰亚胺颗粒消光剂，所述消光剂：a.以所述基膜的1.6至10重量%的量存在，b.具有1.3至10微米的中值粒度；采用Micro‑TRI‑Gloss光泽计测量，所述基膜具有2至35的60度光泽度值，并且基膜的两面是无光的。
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