[发明专利]电解槽及使用该电解槽的再生酸性蚀刻液设备及再生方法

摘要

本发明提供了一种处理废酸性蚀刻液的方法和设备。该蚀刻液是用来在蚀刻机内蚀刻印刷电路板的溶液，将经过反应器中多次溢流的处理，反应器与本发明的电解槽相连，经过再生的酸性蚀刻液将返还到蚀刻机进行新一轮的循环。本发明的突出效果为：电解槽结构简单、紧凑，能很好地为再生过程提供需要的加速剂和反应气体；整个再生过程不需要添加任何再生用的添加剂；提高了蚀刻过程的稳定性和灵活性，将大大改善蚀刻工艺。

主权项

一种电解槽，其特征在于：包括一电‑电渗析系统和一电解系统，所述电‑电渗析系统和所述电解系统按电化学式(2)为一再生酸性蚀刻液的反应器内提供所需反应气体：H₂O→2H⁺+1/2O₂+2e^‑   (2)，所述电解系统按电化学式(3)为所述反应器内提供加速剂：Cl^‑+3H₂O→ClO₃^‑+6H⁺+6e^‑   (3)；所述电‑电渗析系统和电解系统内按照电化学式(6)回收铜，CuCl⁺+2e^‑→Cu+Cl^‑   (6)；所述电解系统按照电化学式(7)和电化学式(8)提供加速剂：2Cl^‑→Cl₂+2e^‑   (7)；Cl₂+6H₂O→2ClO₃^‑+12H⁺+10e^‑   (8)；所述电‑电渗析系统按电化学式(9)为酸性蚀刻液提供额外的酸性溶液，2H⁺+2Cl^‑→2HCl   (9)；所述电解槽包括A隔间和B隔间，所述A隔间内设有电‑电渗析系统，所述B隔间内设有电解系统；所述A隔间包括按电化学式(2)反应用于产生反应气体O₂的第一阳极室；按电化学式(6)反应用于回收铜的第一阴极室，以及置于所述第一阳极室和和第一阴极室之间的中间室；所述B隔间包括按电化学式(2)反应用于产生反应气体O₂、按电化学式(3)反应用于产生加速剂ClO₃^‑的第二阳极室和按电化学式(6)反应用于回收铜的第二阴极室。