[发明专利]利用旋转力减少反应器系统中的腐蚀的系统和方法

摘要

描述了用于减少或消除反应器系统的组件的腐蚀的系统和方法，所述反应器系统包括超临界水气化系统。反应器系统可包括各种系统组件，诸如一个或多个预加热器、换热器和反应器容器。系统组件可构造为接收对其内表面有腐蚀性的反应器流体以及单独地接收具有较高密度且基本上不能与反应器流体混合的保护流体。旋转元件可构造为生成旋转力，该旋转力迫使保护流体的至少一部分在反应器流体与内表面的至少一部分之间的层中流动，该层通过在反应器流体与内表面的至少一部分之间形成屏障来起到减少腐蚀的作用。

主权项

1.一种构造为减少反应器系统的部分的腐蚀的反应器系统，所述系统包括：反应器容器，其包括内表面，并且构造为接收对所述内表面的至少一部分具有腐蚀性的反应器流体和具有比所述反应器流体密度高的密度的稠密流体，所述反应器流体和所述稠密流体基本上不能混合；旋转元件，其构造为在所述反应器容器内旋转，从而生成旋转力，所述旋转力迫使进入所述反应器容器的所述反应器流体的至少一部分在所述反应器容器内以反应器流体漩涡流的方式流动，以及迫使进入所述反应器容器的所述稠密流体的至少一部分以围绕所述反应器流体漩涡流的至少一部分的稠密流体漩涡流的方式流动并且与所述反应器容器的所述内表面毗邻，所述稠密流体漩涡流通过在所述反应器流体与所述内表面的所述至少一部分之间形成屏障来起到减少腐蚀的作用；至少一个稠密流体入口，其构造为提供所述稠密流体进入到所述反应器容器中的入口；以及至少一个稠密流体出口，其位于所述至少一个稠密流体入口下方且构造为将所述稠密流体排出所述反应器容器，所述至少一个稠密流体出口位于所述旋转元件的下方。