[发明专利]具有多投影环境的表演系统在审
申请号: | 201380074545.0 | 申请日: | 2013-12-03 |
公开(公告)号: | CN105103048A | 公开(公告)日: | 2015-11-25 |
发明(设计)人: | 金桓徹;姜睡莲 | 申请(专利权)人: | CJCGV株式会社 |
主分类号: | G03B35/20 | 分类号: | G03B35/20;G03B21/56 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 吕俊刚;刘久亮 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种具有多投影环境的表演系统,该表演系统包括:舞台,其被安装用于表演;以及多个投影表面,其被布置在所述舞台周围,并且布置成彼此不平行,其中,在所述多个投影表面上投射同步的图像。 | ||
搜索关键词: | 具有 投影 环境 表演 系统 | ||
【主权项】:
一种表演系统,该表演系统包括:舞台,其被安装用于表演;以及多个投影表面,其被布置在所述舞台周围,并且布置成彼此不平行,其中,在所述多个投影表面上投射同步的图像。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于CJCGV株式会社,未经CJCGV株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201380074545.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:半导体加工装置以及半导体加工方法
- 下一篇:用于调节光学能量穿透量的装置