[发明专利]检查装置、检查方法、曝光系统及曝光方法、以及元件制造方法在审
| 申请号： | 201380068605.8 | 申请日： | 2013-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN104884945A | 公开（公告）日： | 2015-09-02 |
| 发明（设计）人： | 深泽和彦 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G01N21/956 | 分类号： | G01N21/956;G01J4/04;H01L21/027;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 王涛 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明是使用具有在多个加工条件下加工的图案的基板，高精度检查该多个加工条件中的各加工条件。检查装置(1)，具备可保持在多个曝光条件下表面形成有图案的园片(10)的载台(5)、以偏振光照明园片(10)表面的照明系(20)、接收从园片(10)表面射出的光并检测规定该光的偏振状态的条件的摄影装置(35)及图像处理部(40)、以及将用以判定该图案的曝光条件的装置条件根据规定从以已知的曝光条件形成有图案的条件变更园片(10a)射出的光的偏振状态的条件加以求出的运算部(50)。 | ||
| 搜索关键词： | 检查 装置 方法 曝光 系统 以及 元件 制造 | ||
【主权项】：
一种检查装置，判定图案的加工条件，具备：载台，可保持表面形成有图案的基板；照明部，以偏振光照明该基板的表面；检测部，接收从该基板表面射出的光，以检测规定该光的偏振的状态的条件；存储部，储存用以判定检查对象基板表面形成的检查对象图案的该加工条件的装置条件，该装置条件是依据规定以已知该加工条件形成有图案的基板射出的光的该偏振状态的条件；以及检查部，根据规定以该装置条件从该检查对象基板表面射出的光的该偏振的状态的条件，判定该检查对象图案的该加工条件。
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