[发明专利]清洁装置在审

专利信息
申请号: 201380063920.1 申请日: 2013-12-09
公开(公告)号: CN105451901A 公开(公告)日: 2016-03-30
发明(设计)人: 朱崇泽;陈永林 申请(专利权)人: 特洁安技术公司
主分类号: B08B9/04 分类号: B08B9/04;B01J19/12;B08B9/023
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 苏娟
地址: 加拿大*** 国省代码: 加拿大;CA
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摘要: 公开了一种用于流体处理系统中的辐射源组件的清洁装置。该清洁系统包括:清洁托架,其包括与辐射源组件的外部的至少部分接触的至少一个清洁元件;无杆缸,其包括具有纵向轴线的伸长外壳;置于伸长外壳外表面上的可滑动元件,该可滑动元件(i)连接到清洁托架,并且(ii)磁性连接到置于伸长外壳内、包括摩擦改性元件的驱动元件上,该摩擦改性元件与伸长外壳的内表面接触以限定绕纵向轴线的旋转方向的第一摩擦阻力以及沿着纵向轴线的轴向方向的第二摩擦阻力,该摩擦改性元件配置成使第一摩擦阻力大于第二摩擦阻力;以及连接到驱动元件的伸长活动元件。
搜索关键词: 清洁 装置
【主权项】:
一种用于流体处理系统中的辐射源组件的清洁装置,该清洁系统包括:清洁托架,其包括与辐射源组件的外部的至少部分接触的至少一个清洁元件;无杆缸,其包括具有纵向轴线的伸长外壳;可滑动元件,其置于伸长外壳的外表面上,可滑动元件(i)连接到清洁托架;并且(ii)磁性连接到置于伸长外壳内的驱动元件,驱动元件包括摩擦改性元件,摩擦改性元件与伸长外壳的内表面接触以限定绕纵向轴线的旋转方向上的第一摩擦阻力以及沿纵向轴线的轴向方向上的第二摩擦阻力,摩擦改性元件能够使得第一摩擦阻力大于第二摩擦阻力;和伸长活动元件,其连接到驱动元件。
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