[发明专利]清洁装置

权利要求书

1.一种用于流体处理系统中的辐射源组件的清洁装置，该清洁系统包括：

清洁托架，其包括与辐射源组件的外部的至少部分接触的至少一个清洁元件；

无杆缸，其包括具有纵向轴线的伸长外壳；

可滑动元件，其置于伸长外壳的外表面上，可滑动元件(i)连接到清洁托架；并且(ii)磁性连接到置于伸长外壳内的驱动元件，驱动元件包括摩擦改性元件，摩擦改性元件与伸长外壳的内表面接触以限定绕纵向轴线的旋转方向上的第一摩擦阻力以及沿纵向轴线的轴向方向上的第二摩擦阻力，摩擦改性元件能够使得第一摩擦阻力大于第二摩擦阻力；和

伸长活动元件，其连接到驱动元件。

2.根据权利要求1所述的清洁装置，其中，摩擦改性元件能够基本防止驱动元件绕纵向轴线的旋转。

3.根据权利要求1-2所述的清洁装置，其中，驱动元件相对于伸长外壳的纵向轴线同轴定向。

4.根据权利要求1-3所述的清洁装置，其中，摩擦改性元件包括具有容纳部分的环形元件，容纳部分能够接收滚子元件，滚子元件能够与伸长外壳的内表面接触。

5.根据权利要求4所述的清洁装置，其中，容纳部分具有截面形状，所述截面形状能够推动滚子元件靠在伸长外壳的内部，防止环形元件绕纵向轴线的旋转。

6.根据权利要求4-5所述的清洁装置，其中，环形元件包括能够接收第一滚子元件的第一容纳部和能够接收第二滚子元件的第二容纳部。

7.根据权利要求4所述的清洁装置，其中，第一容纳部具有第一截面形状，所述第一截面形状能够推动滚子元件靠在伸长外壳的内部防止环形元件绕纵向轴线在第一方向上的旋转。

8.根据权利要求7所述的清洁装置，其中，第二容纳部具有第二截面形状，所述第二截面形状能够推动滚子元件靠在伸长外壳的内部防止环形元件绕纵向轴线在与第一方向相反的第二方向上的旋转。

9.根据权利要求8所述的清洁装置，其中，第一截面形状与第二截面形状是不同的。

10.根据权利要求8所述的清洁装置，其中，第一截面形状与第二截面形状是大体上相同的。

11.根据权利要求10所述的清洁装置，其中，第一截面形状和第二截面形状大体关于垂直于伸长外壳的纵向轴线的轴线彼此镜像。

12.根据权利要求6-11所述的清洁装置，其中，环形元件包括两对或更多对第一容纳部和第二容纳部。

13.根据权利要求6-11所述的清洁装置，其中，环形元件包括三对第一容纳部和第二容纳部。

14.根据权利要求1-13所述的清洁装置，进一步包括能够相对于驱动元件固定摩擦改性元件的键元件。

15.根据权利要求4-13所述的清洁装置，进一步包括能够相对于驱动元件固定环形元件的键元件。

16.根据权利要求1-15所述的清洁装置，其中，摩擦改性元件联接到驱动元件的端部部分。

17.根据权利要求1-15所述的清洁装置，其中，驱动元件包括一对摩擦改性元件。

18.根据权利要求17所述的清洁装置，其中，所述对摩擦改性元件联接到驱动元件的相对的端部部分。

19.根据权利要求1-18所述的清洁装置，其中，活动元件包括设置在无杆缸内的伸长机械驱动装置。

20.根据权利要求19所述的清洁装置，其中，机械驱动装置包括与驱动元件接合的伸长可旋转元件。

21.根据权利要求19-20中任一权利要求所述的清洁装置，其中，驱动元件包括联接到机械驱动装置上的联接元件。

22.根据权利要求21所述的清洁装置，其中，联接元件包括伸长机械驱动装置通过的伸长通道。

23.根据权利要求22所述的清洁装置，其中，伸长通道具有与伸长外壳的纵向轴线大体同轴的纵向轴线。

24.根据权利要求19-23中任一权利要求所述的清洁装置，其中，机械驱动装置包括与驱动元件接合的伸长可旋转螺杆元件。