[发明专利]单片集成光电元件的装置在审
申请号: | 201380062874.3 | 申请日: | 2013-10-01 |
公开(公告)号: | CN105122468A | 公开(公告)日: | 2015-12-02 |
发明(设计)人: | 贾斯汀·佩恩 | 申请(专利权)人: | 贾斯汀·佩恩 |
主分类号: | H01L31/103 | 分类号: | H01L31/103;H01L31/105 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 许向彤;陈英俊 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 公开了一种方法,用于在单个硅衬底上制造光电组件结构和传统的电路元件。光电组件的具体实例包括但是不限于:光电二极管结构、光发射器结构和波导结构。传统电路元件包括晶体管、二极管、电阻器、电容器和相关联的金属化的互连。该制造方法与传统CMOS、Bi-CMOS和双极处理要求与设计规则兼容。该方法由下述部分组成:一组处理步骤,用于允许向适当准备的硅表面上的III-V化合物半导体膜的异质外延沉积;一组处理步骤,用于允许该沉积的晶片继续在传统CMOS、Bi-CMOS或双极处理生产线中的处理,而没有污染的风险;以及,一组步骤,用于允许与传统CMOS、Bi-CMOS或双极处理流并行的p-n和p-i-n光电二极管/检测器结构的制造,产生传统的电路元件;以及,一组步骤,用于产生电介质波导和光学上黑色的隔离膜。所公开的方法也允许如此制造的集成光电芯片的晶片级囊封和晶片级封装。 | ||
搜索关键词: | 单片 集成 光电 元件 装置 | ||
【主权项】:
一种用于在硅衬底上制造光电结构的方法。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的