[发明专利]用于金属电极的表面改性剂、经表面改性的金属电极及经表面改性的金属电极的生产方法在审
申请号: | 201380061333.9 | 申请日: | 2013-11-18 |
公开(公告)号: | CN104823266A | 公开(公告)日: | 2015-08-05 |
发明(设计)人: | 伊藤雄佑;清森步 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | H01L21/28 | 分类号: | H01L21/28;H01B5/14;H01B13/00;H01L51/42;H01L51/50;H05B33/10;H05B33/28 |
代理公司: | 北京市隆安律师事务所 11323 | 代理人: | 权鲜枝 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供了一种用于金属电极的表面改性剂,包含由通式(1)代表的活性甲硅烷基化合物:Rf-X-A-SiR13-n(OR2)n(1)其中,Rf是可以具有有1至5个碳原子的烷基取代基的具有6至10个碳原子的芳香基基团,或者具有1到10个碳原子的烷基基团,其中用氟原子取代至少一个氢原子,X代表从-O-、-NH-、-C(=O)O-、-C(=O)NH-、-OC(=O)NH-、和-NHC(=O)NH-选择的二价基团,或单键,A代表具有1至10个碳原子的直链、支链或环式脂肪族二价烃基团、具有6到10个碳原子的芳香族二价烃基团或单键,R1是具有1至3个碳原子的单价烃基团,R2代表具有1至3个碳原子的单价烃基团、乙酰基、丙酰基或者氢原子,以及n是1至3的整数,提供了一种由所述表面改性剂经表面改性的金属电极,以及一种用于生产经表面改性的金属电极的方法。 | ||
搜索关键词: | 用于 金属电极 表面 改性 生产 方法 | ||
【主权项】:
一种用于金属电极的表面改性剂,包含由通式(1)代表的活性甲硅烷基化合物:Rf‑X‑A‑SiR13‑n(OR2)n (1)其中Rf是可以具有有1至5个碳原子的烷基取代基的具有6至10个碳原子的芳香基基团,或者是具有1到10个碳原子的烷基基团,其中用氟原子取代至少一个氢原子,X代表从‑O‑、‑NH‑、‑C(=O)O‑、‑C(=O)NH‑、‑OC(=O)NH‑、和‑NHC(=O)NH‑选择的二价基团,或单键,A代表具有1至10个碳原子的直链、支链或环式脂肪族二价烃基团、具有6到10个碳原子的芳香族二价烃基团或单键,R1是具有1至3个碳原子的单价烃基团,R2代表具有1至3个碳原子的单价烃基团、乙酰基、丙酰基或者氢原子,以及n是1至3的整数。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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