[发明专利]成膜装置有效
| 申请号： | 201380059564.6 | 申请日： | 2013-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN104769151B | 公开（公告）日： | 2017-02-22 |
| 发明（设计）人： | 藤井博文 | 申请（专利权）人： | 株式会社神户制钢所 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/32;B23P15/28 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人： | 朱美红,李婷 |
| 地址： | 日本兵库*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供一种对基材（W）的表面进行PVD处理而形成被膜、并且能够提高其厚度的均匀性的成膜装置（1）。该装置具备收容基材（W）的真空腔室（2）、设在其内壁面上的多个蒸发源、和一边支承多个基材（W）一边使上述基材（W）在真空腔室（2）内移动的基材支承部件（3）。多个蒸发源配置为在沿着台旋转中心轴的方向上排列，包括第1蒸发源和在其内侧相邻的第2蒸发源（4b、4c），所述第1蒸发源是与基材（W）的两端侧对置的蒸发源（4a、4d）中的至少一方。第1蒸发源配置为，比第2蒸发源更向基材（W）侧突出。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 | ||
【主权项】：
一种成膜装置，对多个基材的表面进行PVD处理，由此形成膜，所述成膜装置的特征在于，具备：真空腔室，收容上述多个基材；基材支承部件，设在上述真空腔室内，一边支承沿着上述真空腔室的高度方向配置的多个基材一边使上述多个基材在真空腔室内移动；和多个蒸发源，沿着上述真空腔室的高度方向设在内壁面上，配置为，在与上述基材支承部件使上述多个基材移动的方向交叉的方向上成列排列；上述多个蒸发源包括第1蒸发源和第2蒸发源，所述第1蒸发源为该多个蒸发源中的分别位于该多个蒸发源排列的方向的两端的两个蒸发源的至少一方，所述第2蒸发源与该第1蒸发源相邻，上述第1蒸发源配置为，比上述第2蒸发源更向上述基材侧突出。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社神户制钢所，未经株式会社神户制钢所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201380059564.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
