[发明专利]高度吸收层系统、其制造方法和适用于其的溅射靶材有效

专利信息
申请号: 201380055483.9 申请日: 2013-10-15
公开(公告)号: CN104937443B 公开(公告)日: 2020-04-07
发明(设计)人: 马丁·施洛特;阿尔伯特·卡斯特纳;马库斯·舒尔特海斯;詹斯·瓦格纳;扎比内·施奈德-贝茨;威尔玛·德瓦尔德;伯恩德·西斯泽卡;福尔克尔·西廷格 申请(专利权)人: 万腾荣先进材料德国有限责任公司;弗劳恩霍夫应用研究促进协会
主分类号: G02B1/116 分类号: G02B1/116;G02B5/22
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 张天舒;张杰
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种光吸收层系统,其由至少两个层组成,其中,一个层为面向观测者且由介电材料制成的抗反射层,和至少一个其它层为背对所述观测者的吸收层并由具有亚化学计量氧含量的氧化物或氮氧化物制成。在380nm与780nm之间的波长范围中,所述层系统大体上具有小于1%的可视透射Tv和小于6%的可视反射Rv,且所述层系统的特征为在波长为550nm的情况下至少0.70的卡帕吸收指数。
搜索关键词: 高度 吸收 系统 制造 方法 适用于 溅射
【主权项】:
一种光吸收层系统,其由至少两个层组成,其中,一个层为面向观测者且由介电材料制成的抗反射层,和至少一个其它层为背对所述观测者的吸收层,其特征在于,所述吸收层由具有亚化学计量氧含量的氧化物或氮氧化物制成,且在380nm至780nm之间的波长范围中,所述层系统大体上具有小于1%的可视透射Tv和小于6%的可视反射Rv以及光学吸收,所述光学吸收的特征为在550nm的波长处至少0.70的卡帕吸收指数。
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