[发明专利]硬罩幕组成物及使用硬罩幕组成物的图案形成方法有效
| 申请号： | 201380053489.2 | 申请日： | 2013-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN104718497B | 公开（公告）日： | 2019-03-19 |
| 发明（设计）人： | 李哲虎;朴惟廷;尹龙云;李圣宰;赵娟振;金永珉;李忠宪 | 申请（专利权）人： | 第一毛织株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F1/00;G03F7/26 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 杨贝贝;臧建明 |
| 地址： | 韩国庆尚北道龟尾市*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 揭示硬罩幕组成物以及使用硬罩幕组成物的图案形成方法。硬罩幕组成物包括由下列化学式1表示的高分子、由下列化学式2表示的单体以及溶剂，其中所包含的单体的含量等同于或高于高分子的含量。一实施例的硬罩幕组成物确保耐热性以及耐蚀刻性，且满足填沟特性。 | ||
| 搜索关键词： | 硬罩幕 组成 使用 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种硬罩幕组成物，包括：高分子，由下列化学式1表示；单体，由下列化学式2表示；以及溶剂；其中所包含的所述单体的含量等同于或高于所述高分子的含量：[化学式1]![]()
[化学式2]![]()
其中，在所述化学式1或化学式2中，R1为单键或经取代或未经取代的C1至C10亚烷基，R2至R6各自独立地为氢、羟基、经取代或未经取代的C1至C30烷基、经取代或未经取代的C3至C30环烷基、经取代或未经取代的C6至C30芳基、经取代或未经取代的C3至C30环烯基、经取代或未经取代的C7至C20芳烷基、经取代或未经取代的C1至C20杂烷基、经取代或未经取代的C2至C30杂环烷基、经取代或未经取代的C2至C30杂芳基、经取代或未经取代的C1至C30烷氧基、经取代或未经取代的C2至C30烯基、经取代或未经取代的C2至C30炔基、经取代或未经取代的C1至C20醛基、经取代或未经取代的C1至C4烷基醚、经取代或未经取代的C7至C20芳基亚烷基醚、经取代或未经取代的C1至C30卤烷基或其组合，AR1以及AR2各自独立地为经取代或未经取代的C6至C20芳基，x+y＝1、0
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于第一毛织株式会社，未经第一毛织株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201380053489.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
