[发明专利]用于校准成像装置的方法及设备在审
申请号: | 201380050558.4 | 申请日: | 2013-10-01 |
公开(公告)号: | CN104685868A | 公开(公告)日: | 2015-06-03 |
发明(设计)人: | 塞尔久·R·戈马;卡林·米特科夫·阿塔纳索夫;维卡斯·拉马钱德兰 | 申请(专利权)人: | 高通股份有限公司 |
主分类号: | H04N13/02 | 分类号: | H04N13/02;G06T7/00;H04N5/232 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 宋献涛 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明描述用于调整立体图像对的图像的方法及设备。所述方法及设备可通过第一及第二成像传感器捕获第一及第二图像。所述两个成像传感器具有本征及非本征参数。还可以基于本征及非本征参数确定参考成像传感器的正规化焦距。随后基于所述正规化焦距调整校准矩阵。所述校准矩阵可以应用于通过图像传感器捕获的图像。 | ||
搜索关键词: | 用于 校准 成像 装置 方法 设备 | ||
【主权项】:
一种校准立体成像装置的方法,其包括:通过第一图像传感器捕获所关注场景的第一图像,所述第一图像传感器具有第一分辨率、本征参数的第一集合及非本征参数的第一集合;通过第二图像传感器捕获所述所关注场景的第二图像,所述第二图像传感器具有不同于所述第一分辨率的第二分辨率,其中所述第二图像传感器包括本征参数的第二集合及非本征参数的第二集合,且其中所述第一图像及所述第二图像包括立体图像对;至少部分地基于所述第一传感器的所述本征及非本征参数确定所述第一图像传感器的正规化焦距;基于所述正规化焦距调整校准矩阵;及将所述校准矩阵存储在所述立体成像装置中。
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