[发明专利]向固定磨料幅材中引入添加剂以改善CMP性能无效

专利信息
申请号: 201380049086.0 申请日: 2013-09-17
公开(公告)号: CN104822495A 公开(公告)日: 2015-08-05
发明(设计)人: J·Y·钱;W·D·约瑟夫;S·C·罗珀 申请(专利权)人: 3M创新有限公司
主分类号: B24D3/34 分类号: B24D3/34;C09K3/14;C09C1/68
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 陈长会
地址: 美国明*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供了一种结构化的磨料制品,其具有背衬和结构化磨料层,所述背衬具有第一对置的主表面和第二对置的主表面,所述结构化磨料层设置在所述背衬的第一主表面上并固定到所述背衬的第一主表面。结构化磨料层包含聚合物粘结剂、分散在粘结剂中的磨料颗粒和分散在粘结剂中的添加剂。添加剂提供改善的化学-机械平面化(CMP)抛光性能,包括高的氧化物/氮化物选择性、高的移除速率、较低的氮化物损失以及改善的晶片内不均匀度(WIWNU)。
搜索关键词: 固定 磨料 幅材中 引入 添加剂 改善 cmp 性能
【主权项】:
一种结构化磨料制品,包含:背衬,所述背衬具有第一对置的主表面和第二对置的主表面;结构化磨料层,所述结构化磨料层设置在所述第一主表面上并固定到所述第一主表面,其中所述结构化磨料层包含:聚合物粘结剂,分散在所述粘结剂中的磨料颗粒;以及分散在所述粘结剂中的第一添加剂,其中所述第一添加剂为多齿酸性络合剂,其中所述多齿酸性络合剂包含氨基酸、由氨基酸形成的二肽以及它们的组合。
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