[发明专利]一种用于辐射处理基底的设备有效
| 申请号： | 201380044753.6 | 申请日： | 2013-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN104582923B | 公开（公告）日： | 2016-10-12 |
| 发明（设计）人： | 卡洛斯·里贝罗 | 申请（专利权）人： | 欧瑞康表面处理解决方案股份公司普费菲孔 |
| 主分类号： | B29C35/08 | 分类号： | B29C35/08;B29C71/04;B29C37/00 |
| 代理公司： | 北京海虹嘉诚知识产权代理有限公司 11129 | 代理人： | 张涛 |
| 地址： | 瑞士普费*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于辐射处理基底的设备，其在腔室内在用于装载待处理基底的基底托架上方具有至少一个辐射源，并且所述腔室包括用于维持该腔室内的气流的机构，该腔室具有至少一个气体入口和至少一个气体出口，其特征在于，所述至少一个气体入口如此设置在所述基底托架的区域内，即经由所述至少一个气体入口流入的气体首先环绕流过所述基底托架，随后它直接地和/或在环绕流过至少一个辐射源之后经由所述气体出口又离开所述腔室。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 辐射 处理 基底 设备 | ||
【主权项】：
一种用于辐射处理基底的设备，其在腔室内在用于装载待处理基底的基底托架上方具有至少一个辐射源，并且所述腔室包括用于维持该腔室内的气流的机构，其具有至少一个气体入口和至少一个气体出口，其特征在于，所述至少一个气体入口如此设置在所述基底托架的区域内，即经由所述至少一个气体入口流入的气体首先环绕流过所述基底托架，随后它直接地和/或在环绕流过至少一个辐射源之后经由所述气体出口又离开所述腔室，并且在靠下的腔室边缘上如此设置成形件，即在所述成形件区域内减缓流动并且所述成形件相应地发挥集尘器的作用。
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