[发明专利]阻隔膜构造及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201380042256.2 申请日: 2013-07-30
公开(公告)号: CN104684727B 公开(公告)日: 2017-05-17
发明(设计)人: 约瑟夫·C·斯帕尼奥拉;马克·A·勒里希;托马斯·P·克伦;艾伦·K·纳赫蒂加尔;克里斯托弗·S·莱昂斯;盖伊·D·乔利 申请(专利权)人: 3M创新有限公司
主分类号: B32B15/08 分类号: B32B15/08;H01J1/70
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司11219 代理人: 张爽,郭国清
地址: 美国明*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种阻隔膜,该阻隔膜包括基底;与基底相邻的基础聚合物层;与基础聚合物层相邻的氧化物层;与氧化物层相邻的粘附调整层;以及与粘附调整层相邻的顶部涂层聚合物层。任选的无机层可施加在顶部涂层聚合物层上方。包含粘附调整层提供了增强的抗湿性,以及顶部涂层聚合物层对下面的阻隔堆叠层的改善的剥离强度粘附性。
搜索关键词: 阻隔 构造 及其 制造 方法
【主权项】:
一种阻隔膜,其包括:基底;与所述基底相邻的基础聚合物层;与所述基础聚合物层相邻的氧化物层;与所述氧化物层相邻的蒸气沉积的粘附调整剥离层;以及与所述粘附调整剥离层相邻的顶部涂层聚合物层。
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