[发明专利]具有改善腔室结构的狭缝模头及包括其的涂布装置有效

专利信息
申请号: 201380037136.3 申请日: 2013-12-06
公开(公告)号: CN104487175A 公开(公告)日: 2015-04-01
发明(设计)人: 金陈宇;金钟勋;李柱成 申请(专利权)人: 株式会社LG化学
主分类号: B05C5/02 分类号: B05C5/02;B05C11/10;H01M4/04;H01M10/04
代理公司: 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 代理人: 杨勇;郑建晖
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明公开了一种狭缝模头,其具有模体,所述模体包括:供给部,用于引入涂布材料;腔室,用于容纳通过所述供给部供应的涂布材料;狭缝,该狭缝与所述腔室连通以排出所述涂布材料;以及模唇,用于形成所述狭缝。所述腔室包括腔室块,所述腔室块具有用于容纳所述涂布材料的内部空间并且被配置使得整个块相对于所述模体都是可更换的。涂布宽度是根据所述腔室块的内部空间的宽度而确定的。
搜索关键词: 具有 改善 结构 狭缝 包括 装置
【主权项】:
一种狭缝模头,其具有模体,所述模体包括:供给部,用于引入涂布材料;腔室,用于容纳通过所述供给部供应的涂布材料;狭缝,与所述腔室连通以排出所述涂布材料;以及模唇,用于形成所述狭缝,其特征在于,所述腔室具有腔室块,所述腔室块形成有用于容纳所述涂布材料的内部空间,并且被配置使得整个块相对于所述模体都是可更换的,以及其中涂布宽度是根据所述腔室块的内部空间的宽度而确定的。
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