[发明专利]有机薄膜形成装置

摘要

本发明利用通过加热生成的有机化合物的蒸气以高成膜速率形成有机薄膜。将成膜室（43）配置到缓冲室（42）的内部，将中央辊（17）的一部分侧面从成膜室开口（54）插入到成膜室（43）内，使基材膜（23）一边紧贴在该部分的侧面上一边行进。从连接在成膜室（43）上的蒸气生成装置（26）将蒸气通过载气运输，通过冷却装置（30）将中央辊（17）冷却，将基材膜（23）冷却到蒸气的冷凝温度以下的温度，通过释放到成膜室（43）内的蒸气在基材膜（23）的表面上形成有机原料层（35），使中央辊（17）旋转，在硬化室（44）中照射能量线而使其硬化。缓冲室（42）真空排气到低压力，使得从成膜室开口（54）流出的载气和蒸气不流入到硬化室（44）及卷室（41）中。

主权项

一种薄膜形成装置，具有真空槽、蒸气释放装置、能量线射出装置、放卷装置、卷绕装置和圆筒状的中央辊，安装在所述放卷装置上的基材膜的原坯卷被放出，被放出的基材膜一边背面与所述中央辊的侧面接触一边在所述真空槽内行进，在借助所述卷绕装置进行卷绕期间，从所述蒸气释放装置的释放口释放到所述真空槽内的有机化合物的蒸气到达与所述中央辊的侧面接触的部分的所述基材膜的表面，在形成有机原料层后，从所述能量线射出装置的射出部射出的能量线被照射到所述有机原料层，所述有机原料层中的所述有机化合物进行化学反应，形成有机薄膜，其特征在于，所述薄膜形成装置如下所述地构成：在所述真空槽的外部，配置有生成所述有机化合物的蒸气并向所述蒸气释放装置供给的蒸气生成装置，在所述真空槽的内部配置有缓冲室，在处于所述真空槽的内部且处于所述缓冲室的外部的位置，配置有硬化室，在所述缓冲室的内部配置有成膜室，所述缓冲室、所述成膜室和所述硬化室分别连接至真空排气装置，所述释放口配置在所述成膜室的内部，所述射出部配置在所述硬化室中，所述中央辊配置成，以位于所述缓冲室中的旋转轴线为中心旋转，在形成所述成膜室的成膜室隔壁中的位于所述旋转轴线与所述释放口之间的部分，设有成膜室开口，所述释放口与所述中央辊的侧面面对，在形成所述硬化室的硬化室隔壁中的位于所述旋转轴线与所述射出部之间的部分，设有硬化室开口，所述射出部与所述中央辊的侧面面对。