[发明专利]光子源、检查设备、光刻系统以及器件制造方法有效
申请号: | 201380030523.4 | 申请日: | 2013-05-23 |
公开(公告)号: | CN104380203B | 公开(公告)日: | 2017-09-08 |
发明(设计)人: | H·柏莱曼斯;G·范德祖克;R·斯梅茨;J·德维特;P·安齐费罗夫;V·克里夫特苏恩 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H05G2/00;G01N21/956;H01J65/04;H01J61/02;H01J61/54;H05B41/38 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人: | 张启程 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种激光驱动的光源,包括激光器(52)和聚焦光学装置(54)。这些产生聚焦在容器(40)内的等离子体形成区上的辐射束,其中所述容器包括气体(例如,氙气)。收集光学装置(44)收集由通过所述激光束保持的等离子体(42)发射的光子,以形成输出辐射束(46)。等离子体具有细长形状(L>d),并且收集光学装置被配置用于收集沿纵向从等离子体出射的光子。相比于收集沿横向从等离子体出射的辐射的源,等离子体的亮度被增大。由于增大的亮度,使用所述光源的量测设备可以获得较大的精确度和/或生产率。可以提供回射反射器。微波辐射可以被使用,代替激光辐射,以形成等离子体。 | ||
搜索关键词: | 光子 检查 设备 光刻 系统 以及 器件 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种基于等离子体的光子源设备,包括:(a)用于容纳气体环境的容器;(b)驱动系统,用于产生驱动辐射,并且该驱动系统用于将所述驱动辐射形成为在所述容器内的等离子体形成区上聚焦的至少一个辐射束;以及(c)收集光学系统,用于收集由通过所述辐射束保持在等离子体部位处的等离子体发射的光子,并且用于将所收集的光子形成为至少一束输出辐射,其中所述驱动系统被配置用于将等离子体保持为细长形状,所述细长形状具有沿纵轴的长度并且所述长度实质上大于所述细长形状在横向于所述纵轴的至少一个方向上的直径,并且其中所述收集光学系统被配置用于沿着所述纵轴从所述等离子体的一端收集从所述等离子体出射的光子,其中所述驱动系统被布置用于沿所述纵轴在所述等离子体的、与所收集的光子出射所在的等离子体的一端相反的一端处传递所述驱动辐射。
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