[发明专利]负性工作厚膜光致抗蚀剂

摘要

本发明公开了用于负性工作厚膜光致抗蚀剂的基于丙烯酸系共聚物的组合物。还包括使用所述组合物的方法。

主权项

负性工作光敏性光致抗蚀剂组合物，包含：a)至少一种包含下式的结构的聚合物：其中R1‑R5独立地为H、F或CH3，R6选自取代的芳基、未取代的芳基、取代的杂芳基和取代的杂芳基，R7为取代或未取代的苄基，R8为直链或支链的C2‑C10羟烷基或丙烯酸C2‑C10羟烷酯，且R9为酸可裂解基团，v＝10‑40摩尔％，w＝0‑35摩尔％，x＝0‑60摩尔％，y＝10‑60摩尔％且z存在且范围至多45摩尔％，所述酸可裂解基团选自叔丁基、四氢吡喃‑2‑基、四氢呋喃‑2‑基、4‑甲氧基四氢吡喃‑4‑基、1‑乙氧基乙基、1‑丁氧基乙基、1‑丙氧基乙基、3‑氧代环己基、2‑甲基‑2‑金刚烷基、2‑乙基‑2‑金刚烷基、8‑甲基‑8‑三环[5.2.1.0 2,6]癸基、1,2,7,7‑四甲基‑2‑降冰片基、2‑乙酰氧基薄荷基、1‑甲基‑1‑环己基乙基、4‑甲基‑2‑氧代四氢‑2H‑吡喃‑4‑基、2,3‑二甲基丁‑2‑基、2,3,3‑三甲基丁‑2‑基、1‑甲基环戊基、1‑乙基环戊基、1‑甲基环己基、1‑乙基环己基、1,2,3,3‑四甲基双环[2.2.1]庚‑2‑基、2‑乙基‑1,3,3‑三甲基双环[2.2.1]庚‑2‑基、2,6,6‑三甲基双环[3.1.1]庚‑2‑基、2,3‑二甲基戊‑3‑基或3‑乙基‑2‑甲基戊‑3‑基；b)一种或多种由光化辐射活化的自由基引发剂,c)一种或多种能够进行自由基交联的可交联的丙烯酸酯化单体，其中丙烯酸酯官能度大于1，和d)溶剂。