[发明专利]用于湿酸性蚀刻中污泥控制的方法有效
| 申请号： | 201380028674.6 | 申请日： | 2013-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN104684859B | 公开（公告）日： | 2019-07-12 |
| 发明（设计）人： | 侯军;金宇辉;S·尚穆加姆;M·D·泰蒂克 | 申请（专利权）人： | 康宁股份有限公司 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00;C09K13/08 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 项丹 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及对污泥进行控制的方法，所述污泥是在对玻璃制品进行湿酸性蚀刻过程中产生的。需要控制的4个因素是：(i)溶解的玻璃水平A；(ii)HF浓度B；(iii)第二酸浓度C，所述第二酸是强酸；以及(iv)沉淀物的溶解度常数D，Ksp，其通过改变温度或离子强度进行控制。本文所揭示的方法采用HF作为蚀刻剂以及选自下组的强酸：HCl、H2SO4、HNO3以及HClO4。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 酸性 蚀刻 污泥 控制 方法 | ||
【主权项】：
1.一种对玻璃湿蚀刻过程中的沉淀量进行控制的方法，所述方法包括在蚀刻剂中对玻璃进行蚀刻，同时通过向蚀刻剂中添加第二强酸来控制蚀刻剂中氢离子的浓度，其中，根据如下等式，将蚀刻剂中的沉淀量控制到选定的水平，所述沉淀量的单位是g/L：沉淀量＝因素A–(Ksp/(因素B/因素C))+因素D，其中：因素A是蚀刻剂中溶解的玻璃水平；因素B是蚀刻剂中HF的浓度；因素C是蚀刻剂中第二强酸的浓度；以及因素D是沉淀的溶解度常数Ksp，通过改变蚀刻剂的温度或蚀刻剂的总离子强度对其进行控制，其中，对于HF浓度为1.0 M至4 M，蚀刻剂的游离质子浓度维持在0.5 M至6.0 M的范围内。
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