[发明专利]位置测量方法、位置测量设备、光刻设备以及装置制造方法、光学元件

摘要

设备(AS)测量在光刻衬底(W)上的标记(202)的位置。照射装置(940、962、964)从至少第一和第二区域提供离轴辐射。第一和第二源区域相对于光轴(O)在直径上彼此相对并且限定在角范围内。区域可以是根据被测量的标记的周期性方向而选择的小光斑，或者更大区段。可以通过在单个源馈送位置提供辐射至自参考干涉仪而产生在源区域的所选配对处的辐射。改良的半波片位于干涉仪的下游，其可以用于位置测量设备中。改良的半波片使其在一个部分中的主轴相对于在直径上相对的另一部分中的快轴成45°。

主权项

一种测量衬底上的标记的位置的方法，所述标记包括沿至少第一方向成周期性的特征，所述方法包括：经由物镜采用辐射光斑照射所述标记，以及经由相同的物镜接收由所述标记衍射的辐射；在自参考干涉仪中处理所述衍射的辐射；在采用所述辐射光斑扫描所述标记时，检测由所述干涉仪输出的辐射强度的变化；以及从检测到的变化计算所述标记沿至少第一测量方向的位置，其中，使用来自约束至所述物镜的光瞳内的外围部分的源区域的辐射来形成所述辐射光斑，所述源区域包括相对于所述物镜的光轴在直径上彼此相对、并且相对所述光轴被限定在角范围内的至少第一源区域和第二源区域，以及其中，所述第一源区域和所述第二源区域沿与所述标记的周期性的所述第一方向横切的方向相互偏移。