[发明专利]使用反射及透射图来检测光罩劣化有效
| 申请号： | 201380025799.3 | 申请日： | 2013-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN104303048B | 公开（公告）日： | 2018-05-04 |
| 发明（设计）人： | 卡尔·E·赫斯;石瑞芳 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司11287 | 代理人： | 张世俊 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在检验期间使用光学光罩检验工具来针对每一局部区域获得对应于从光罩的每一局部区域的多个子区域反射的光的多个反射强度值的平均值。还在所述检验期间使用所述光学光罩检验工具来针对每一局部区域获得对应于透射通过所述光罩的每一局部区域的所述子区域的光的多个透射强度值的平均值。通过针对每一局部区域组合多个反射强度值的所述平均值与多个透射强度值的所述平均值而产生组合强度分布图，使得如果光罩尚未劣化，那么从所述组合强度分布图消除所述光罩的光罩图案；且如果所述光罩已劣化，那么不从所述组合强度分布图消除所述光罩的所述光罩图案。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 反射 透射 检测 光罩劣化 | ||
【主权项】：
一种检验光刻光罩的方法，所述方法包括：定义光罩的多个局部区域；在检验期间使用光学光罩检验工具来针对每一局部区域获得对应于从所述光罩的每一局部区域的多个子区域反射的光的多个反射强度值的平均值；在所述检验期间使用所述光学光罩检验工具来针对每一局部区域获得对应于透射通过所述光罩的每一局部区域的所述多个子区域的光的多个透射强度值的平均值；以及通过针对每一局部区域组合多个反射强度值的所述平均值与多个透射强度值的所述平均值而产生组合强度分布图，使得：如果所述光罩尚未劣化，那么从所述组合强度分布图消除所述光罩的光罩图案；且如果所述光罩已劣化，那么不从所述组合强度分布图消除所述光罩的所述光罩图案。
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