[发明专利]测量EUV镜头的成像质量的测量系统有效
| 申请号： | 201380015955.8 | 申请日： | 2013-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN104204952B | 公开（公告）日： | 2018-04-27 |
| 发明（设计）人： | R.弗里斯;M.萨马尼戈;M.德冈瑟;H.海德纳;R.霍克;M.施里弗 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01M11/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人： | 陈金林 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于测量EUV镜头(30)的成像质量的测量系统(10)，包括衍射测试结构(26)；测量光辐射装置(16)，构造成将EUV波长范围中的测量光(21)辐射至测试结构；变更装置(28)，用于改变借助镜头实现的测试结构的成像的至少一个像确定参数；探测器(14)，用于记录像堆，所述像堆包括在设定不同像确定参数的情况下产生的多个像；以及评估装置(15)，构造成从像堆确定镜头的成像质量。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 euv 镜头 成像 质量 系统 | ||
【主权项】：
一种用于测量EUV镜头的成像质量的测量系统，包括：‑衍射测试结构，所述衍射测试结构实现为孔结构；‑测量光辐射装置，构造成将处于EUV波长范围中的测量光辐射至所述测试结构上；‑变更装置，用于改变所述测试结构借助所述镜头实现的成像的至少一个像确定参数；‑探测器，用于记录像堆，所述像堆包括在设定不同像确定参数的情况下产生的多个像；以及‑评估装置，构造成从所述像堆确定所述镜头的成像质量，并且还构造成：对于所述孔结构的尺寸，在确定所述镜头的成像质量时借助优化计算确定与实际尺寸的偏离值。
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