[发明专利]用于测量基片中间隔区域的系统有效
| 申请号： | 201380015194.6 | 申请日： | 2013-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN104321633A | 公开（公告）日： | 2015-01-28 |
| 发明（设计）人： | 弗雷德里克·阿巴斯;弗朗索瓦·里厄托尔;让-丹尼尔·佩诺特;菲利普·蒙特马耶 | 申请（专利权）人： | 委员会原子能和替代能源 |
| 主分类号： | G01N3/06 | 分类号： | G01N3/06;G01B11/14 |
| 代理公司： | 北京万慧达知识产权代理有限公司 11111 | 代理人： | 白华胜;段晓玲 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于测量基片中间隔区域的系统。该用于测量至少一个基片(6)的第一部分(4)和第二部分(5)之间的间隔区域C扩展的所述系统(2)包括：用于发射至少两个入射光束Fi的模块(10)，每个入射光束在基片(6)上照亮间隔点，所述至少两个入射光束Fi能够穿过第一部分(4)和间隔区域C以及遇到第二部分，这样每个入射光束产生至少一个源自第一部分(4)和间隔区域C之间界面的第一出射光束Fe，以及至少一个源自间隔区域C和第二部分(5)之间界面的第二出射光束Fe；用于检测产生自第一和第二出射光束Fe之间干涉的光强的检测模块(8)；以及用于确定间隔区域C扩展状况的计算机(11)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 测量 片中 间隔 区域 系统 | ||
【主权项】：
一种用于测量至少一个基片(6)的第一部分(4)和第二部分(5)之间的间隔区域扩展的测量系统(2)，所述测量系统(2)包括：‑发射模块(10)，其用于发射照亮基片(6)区域的至少两个空间分开的入射光束Fi，所述发射模块(10)被设置以使得至少两个入射光束Fi能够穿过第一部分(4)、间隔区域C并且遇到第二部分(5)，这样每个入射光束产生至少一个源自第一部分(4)和间隔区域C之间界面的第一出射光束Fe，和至少源自间隔区域C和第二部分(5)之间界面的第二出射光束Fe，‑用于检测发光强度的检测模块(8)，该检测模块被设置以便在第一出射光束和第二出射光束Fe之间的干涉给定点处检测产生的发光强度的值，‑计算机(11)，其被设置为根据由检测模块(8)检测的发光强度的时间变化来确定代表间隔区域C扩展情况的至少一个参数。
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