[发明专利]测量起皱胶膜特征的方法和改变起皱胶膜的方法有效
| 申请号： | 201380014948.6 | 申请日： | 2013-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN104204764B | 公开（公告）日： | 2018-07-20 |
| 发明（设计）人： | 弗拉基米尔·格里格瑞夫;丹尼·阮;斯科特·罗森可瑞斯;卢辰 | 申请（专利权）人： | 凯米拉公司 |
| 主分类号： | G01N5/02 | 分类号： | G01N5/02 |
| 代理公司： | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人： | 程伟 |
| 地址： | 芬兰，*** | 国省代码： | 芬兰;FI |
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| 摘要： | 本文描述石英晶体微量天平(QCM)和具有耗散功能的石英晶体微量天平(QCMD)技术，其可用于测量与在薄纱纸和毛巾制造过程期间在杨克烘缸(Yankee dryer)上形成的起皱胶膜类似的起皱胶膜的特征。另外，本文所述的示范性实施例可以使用这些技术来预测用于形成起皱胶膜的起皱助剂的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 起皱 胶膜 特征 方法 改变 | ||
【主权项】：
1.一种测量沉积在杨克烘缸上的起皱胶膜的特征的方法，其包含：在传感器衬底上沉积起皱胶膜；使用石英晶体微量天平(QCM)技术来测量上面沉积有所述起皱胶膜的所述传感器衬底的振荡频率，可以在模拟所述起皱胶膜所经历的实际加工条件的条件下对所述传感器衬底施加所述振荡频率；以及根据获得的所述振荡频率来测定所述起皱胶膜的特征；以及基于对起皱胶膜特征的分析来改变起皱胶膜的组成。
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