[发明专利]热敏转印记录介质及其制造方法、以及热敏转印记录方法有效
申请号: | 201380008108.9 | 申请日: | 2013-01-29 |
公开(公告)号: | CN104105603B | 公开(公告)日: | 2017-03-08 |
发明(设计)人: | 福永悟大;大和丈仁;杉下康雄;平井瑶子 | 申请(专利权)人: | 凸版印刷株式会社 |
主分类号: | B41M5/382 | 分类号: | B41M5/382;B41M5/40;B41M5/42 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人: | 丁业平,张苏娜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种热敏转印记录介质,其在高速印刷时的转印灵敏度高,可以减少在高浓度部中发生的画质不良(即印刷品表面部分消光)的现象,并且能够防止由印刷时产生的褶皱引起的印刷不良。本发明的热敏转印记录介质中,含有水溶性高分子作为主成分的所述底涂层在23℃/50%下的平衡吸湿率为15%以下,优选为13%以下,另外更优选的是,所述耐热润滑层的表面粗糙度(均方根偏差Sq)的平均值α为0.05~0.40μm,并且在150℃、10分钟的条件下静置后的该耐热润滑层的表面粗糙度(均方根偏差Sq)的平均值β为0.00~0.70μm,所述平均值α与所述平均值β的差为0.00~0.30μm。 | ||
搜索关键词: | 热敏 印记 介质 及其 制造 方法 以及 | ||
【主权项】:
一种热敏转印记录介质,具有基材、在该基材的一侧面上形成的耐热润滑层、在所述基材的另一侧面上形成的底涂层、以及在该底涂层的与所述基材相对的面的相反面上形成的染料层,其特征在于,所述底涂层中含有水溶性高分子作为主成分,并且在温度为23℃且湿度为50%的条件下的平衡吸湿率为15%以下,所述耐热润滑层的表面粗糙度以均方根偏差Sq计的平均值α为0.05~0.40μm,并且在150℃、10分钟的条件下静置后的所述耐热润滑层的表面粗糙度以均方根偏差Sq计的平均值β为0.00~0.70μm,所述平均值α与所述平均值β的差为0.00~0.30μm。
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