[发明专利]热敏转印记录介质及其制造方法、以及热敏转印记录方法有效

专利信息
申请号: 201380008108.9 申请日: 2013-01-29
公开(公告)号: CN104105603B 公开(公告)日: 2017-03-08
发明(设计)人: 福永悟大;大和丈仁;杉下康雄;平井瑶子 申请(专利权)人: 凸版印刷株式会社
主分类号: B41M5/382 分类号: B41M5/382;B41M5/40;B41M5/42
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 代理人: 丁业平,张苏娜
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种热敏转印记录介质,其在高速印刷时的转印灵敏度高,可以减少在高浓度部中发生的画质不良(即印刷品表面部分消光)的现象,并且能够防止由印刷时产生的褶皱引起的印刷不良。本发明的热敏转印记录介质中,含有水溶性高分子作为主成分的所述底涂层在23℃/50%下的平衡吸湿率为15%以下,优选为13%以下,另外更优选的是,所述耐热润滑层的表面粗糙度(均方根偏差Sq)的平均值α为0.05~0.40μm,并且在150℃、10分钟的条件下静置后的该耐热润滑层的表面粗糙度(均方根偏差Sq)的平均值β为0.00~0.70μm,所述平均值α与所述平均值β的差为0.00~0.30μm。
搜索关键词: 热敏 印记 介质 及其 制造 方法 以及
【主权项】:
一种热敏转印记录介质,具有基材、在该基材的一侧面上形成的耐热润滑层、在所述基材的另一侧面上形成的底涂层、以及在该底涂层的与所述基材相对的面的相反面上形成的染料层,其特征在于,所述底涂层中含有水溶性高分子作为主成分,并且在温度为23℃且湿度为50%的条件下的平衡吸湿率为15%以下,所述耐热润滑层的表面粗糙度以均方根偏差Sq计的平均值α为0.05~0.40μm,并且在150℃、10分钟的条件下静置后的所述耐热润滑层的表面粗糙度以均方根偏差Sq计的平均值β为0.00~0.70μm,所述平均值α与所述平均值β的差为0.00~0.30μm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于凸版印刷株式会社,未经凸版印刷株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201380008108.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top