[发明专利]色素吸附装置以及色素吸附方法无效
| 申请号： | 201380008090.2 | 申请日： | 2013-02-07 |
| 公开（公告）号： | CN104106178A | 公开（公告）日： | 2014-10-15 |
| 发明（设计）人： | 寺田尚司 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01M14/00 | 分类号： | H01M14/00;H01L31/04 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李洋;舒艳君 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供色素吸附装置以及色素吸附方法。在色素吸附装置中，与以往相比能够大幅度缩短色素吸附时间从而提高生产量，且能够高效地使用色素溶液而减少成本。色素吸附装置具备：收纳被处理基板(G)并形成处理空间(T)的腔室(10)、向上述处理空间供给色素溶液(20)的色素溶液供给机构(6、7、8)、以及对上述处理空间内进行减压吸引的减压机构(12、13、14)，利用上述减压机构使上述处理空间内的色素溶液被减压干燥，上述色素溶液的溶剂挥发从而使色素吸附于上述半导体多孔质层。 | ||
| 搜索关键词： | 色素 吸附 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种色素吸附装置，其使形成于被处理基板上的半导体多孔质层吸附规定的色素，所述色素吸附装置的特征在于，具备：收纳所述被处理基板并形成处理空间的腔室、向所述处理空间供给色素溶液的色素溶液供给机构、以及对所述处理空间内进行减压吸引的减压机构，利用所述减压机构使所述处理空间内的色素溶液被减压干燥，所述色素溶液的溶剂挥发从而使色素被吸附于所述半导体多孔质层。
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